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        長鑫LPDDR5內存定了:2-3年內攻堅成功、17nm以下工藝

        合肥長鑫公司去年9月份宣布量產國內DDR4內存芯片,總投資1500億的國內內存項目終于開花結果了。今年以來有多款基于長鑫DDR4的國產內存上市,現在下一步目標也定了,預計2-3年內搞定LPDDR5,工藝升級到17nm以下。

        合肥長鑫所在地的安徽省日前發布了《重點領域補短板產品和關鍵技術攻關任務揭榜工作方案》文件,該方案要求通過2-3年時間,重點突破一批制約產業發展的關鍵技術,培育一批優勢產品,做強一批優勢企業,不斷提高制造業自主可控水平,促進制造業高質量發展。

        在內存方面,文件要求推進低功耗高速率LPDDR5 DRAM產品開發,要面向中高端移動、平板及消費類產品DRAM存儲芯片自主可控需求,研發先進低功耗高速率LPDDR5 產品并實現產業化,依托DRAM  17nm及以下工藝,攻關高速接口技術、Bank Group架構設計技術、低功耗電源(電壓)技術、片內糾錯編碼(On-Die ECC)技術,完成低功耗高速率LPDDR5 DRAM產品開發。

        安徽的這個文件可以說是該省內信息技術產業發展的一個大綱,希望2-3年內解決一些關鍵技術瓶頸,實際上合肥長鑫此前也公布過類似的技術路線圖,他們去年量產的內存還是第一代10nm級工藝10G1,相當于19nm工藝的DDR4技術,包括桌面級DDR4LPDDR4等等。

        長鑫LPDDR5內存定了:2-3年內攻堅成功、17nm以下工藝

        長鑫已經在規劃后續的內存新品及工藝了,預計還會有10G310G5工藝,目前具體水平不確定,大概率會是1X1Y1Znm工藝的演進,相當于16-1914-1612-14nm的水平,具體看長鑫的能力。

        至于國產LPDDR5的問世時間,官方2-3年肯定是留出足夠空間的,實際完成的時間應該會比這個短,類似長江存儲的國產閃存那樣,只要解決了第一代,后面的迭代升級會加快速度。

        長鑫LPDDR5內存定了:2-3年內攻堅成功、17nm以下工藝

         

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